Zur Sicherung einer gleichbleibenden Qualität von industriellen Produkten wird zur Überwachung ihrer technologischen Herstellungsprozesse in wachsendem Maß angepasste Prozessmesstechnik eingesetzt. Wenn dabei die Bestimmung der Elementzusammensetzung von Produkten ein wesentliches Kriterium ist, so ist - insbesondere aufgrund ihrer physikalisch-technischen und applikativen Eigenschaften - der Einsatz der Röntgenfluoreszenzanalyse XRF für viele Produktionsprozesse die Kontrollmethode der Wahl.
Das XRF - Messprinzip besteht in der Berechnung des relativen Gehalts verschiedener Elemente in einem Material entsprechend der Intensität ihrer Fluoreszenzlinien.

Das Einsatzgebiet des Röntgenfluoreszenz- Analysenmesssystems ELBRUS XRF ist die Prozessanalytik, allgemeiner gesprochen, die on-line – Technologiekontrolle. Das ELBRUS XRF System besteht aus diversen Röntgenmessköpfen und –scannern sowie den erforderlichen elektrischen Steuerungs- und Versorgungseinheiten und einem Industriecomputer. Für die Messköpfe werden u.a. die erprobten IfG - Komponenten, wie die bauartzugelassene Röntgenquelle iMOXS und fokussierenden Röntgenkapillaroptiken, sowie schnelle, peltiergekühlte Silizium-Drift-Detektoren (SDD) verwendet.

Das ELBRUS XRF System umfasst derzeit drei Messköpfe verschiedener Spezifikation (Rapid, Standard, Compact), spezielle Vakuumkammern (zulässige Prozesstemperaturen bis 550°C) für ihren in-situ- Einsatz sowie zwei Scanner iXSCAN (Standard-2D bzw. Portabel-1D). Dadurch kann für die Anwender in der Fertigung, Qualitätskontrolle oder F&E das jeweils optimale Messsystem (zeitliche und analytischen Anforderungen, Kosten) für den zu überwachenden Prozess bereitgestellt werden.

Die Kontrolle der Messköpfe und Scanner – Systemkontrolle, Messungen, Datenverarbeitung und Kommunikation mit der technologischen Prozesseinheit – wird durch ein eigenes, proprietäres Softwareprogramm realisiert. Aufgrund seiner kompakten und modularen Konstruktion ist der Einsatz des ELBRUS XRF Systems in der Fertigungslinie (in-line, ex-situ bzw. in-situ), an der Linie (at-line) und alleinstehend (off-line) möglich.

Für die Anwendung des ELBRUS XRF Systems gibt es keine werkstoffseitigen Beschränkungen. Es ermöglicht die on-line Überwachung beispielsweise von:

• homogenen massiven Produkten,
• Schichtsystemen, die auf festen oder flexiblen, anorganischen oder organischen Trägersubstraten abgeschieden werden, z.B. solche für die Photovoltaik,
• anderen Produkten in flüssiger Form usw.

hinsichtlich ihrer Zusammensetzung und Schichtdicke.

Zur umfassenderen Charakterisierung der Schichtsysteme sind methodische und gerätetechnische Erweiterungen mit Raman- und XRD-Messköpfen möglich.